
6.78MHzと2MHzを組み合わせ、照射の深さを三段階に分けます。
単一周波数の高周波が主に真皮層に働くのに対し、セルフは2MHzの波長を加えてより深い層までエネルギーを届けられます。
深さは浅い層・中間層・深い層の三段階、出力は10段階に分けて調節し、チップ表面の温度をリアルタイムで確認しながら進めます。
一つの部位にいくつもの悩みが重なっているときに役立つ方法です。
同じ頬でも、真皮のハリの問題と深い層のたるみは分けて扱う必要があります。
一つの顔の中でも、部位ごとに浅い層・中間層・深い層を分けて照射します。
照射中はチップ表面の温度をリアルタイムで見ながら、過度な温度上昇を避けます。
必要な分だけ使い、痛みに敏感な部位は方法を変えて適用します。
※ 上記は一般的な目安であり、実際の適用範囲や経過は肌の状態・部位・施術歴によって異なります。
すべての施術は専門医のカウンセリングを経て決めます。
専門医が肌の厚みとたるみの程度を確認し、適用範囲を決めます。
部位と強さに応じて麻酔の方法と時間を分けて適用します。
設計した深さと出力で、専門医が直接行います。
鎮静ケアとホームケアをご案内し、その後の変化を一緒に確認します。
セルフは6.78MHzに2MHzを加えてより深い層まで照射でき、深さを三段階に分けて適用します。
部位と強さによっては可能な場合があります。
カウンセリングで痛みの感じやすさを確認したうえで決めます。
ほとんどの方が施術当日に日常へ戻れます。
軽い赤みは自然に落ち着きます。
深い層の出力を無理に上げず、顔のボリュームの状態をあわせて確認してから深さを決めます。